产品信息
微电子领域在所有应用产业中，靶材工厂，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。如今12英寸 （3 0 0衄 口）的 硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅 片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和 细晶粒， 这就要...
产品规格:铟.锡氧化物（ITO）高密度小圆靶1.产品主要用途
蒸镀制备ITO导电膜2.产品的物理及化学特性2.1 化学式：In2O3/SnO22.2外 观：黑色2.3 晶粒度：5~15μm2.4相对密度：≥99%2....
产品规格:铟.锡氧化物（ITO）高密度小圆靶1.产品主要用途
蒸镀制备ITO导电膜2.产品的物理及化学特性2.1 化学式：In2O3/SnO22.2外 观：黑色2.3 晶粒度：5~15μm2.4相对密度：≥99%2....
磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，靶材粉体，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，靶材，除可溅射导电材料外，靶材ITO，也可溅射非导电的材料，靶材IWO，同时还可进行反应溅射制备氧...
靶材的定义：金属靶材，是属于靶材的范畴，靶材就是镀膜用的基底，不同的靶材镀不同的膜，比如液晶显示器，平板电脑就是用的ITO靶材，ITO靶材是金属氧化物靶材，还有AZO靶材，等等，用于镀膜，手机膜，电脑膜，镀好的膜不是像玻璃那样用的，...
分类根据形状可分为长靶，靶材，方靶，低密度靶材，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领...
分类根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领域分为微电子靶材、...
发展各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，在半...
产品规格:铟.锡氧化物（ITO）低密度小圆靶1.产品主要用途
蒸镀制备ITO导电膜2.产品的物理及化学特性2.1 化学式：In2O3/SnO22.2 外 观：绿色2.3 晶粒度：5~15μm2.4相对密度：60%±2％...
发展各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，ATO纳米颗粒，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的...